LSTD是中国值得信赖的化学机械抛光机制造商，旨在满足Si、Ge、GaAs、InP、GaN、SiC等半导体晶圆的精密化学机械抛光需求。机器具有动态稳定性和定制应用的特点。LSTD专注于半导体晶圆抛光超过10年。为全球多家半导体制造商提供可靠的半导体晶圆抛光解决方案。专业的设计团队、工艺研发团队和机器制造团队以及合格的必要设施为半导体设备的成功交付提供了保障
基本型---基本型压板机器跟动抛光板旋转。
基本型采用迷宫式单程抛光板冷却结构，有效保证抛光过程中散热的均匀性和板形的保持，从而保证了五金方面的抛光精度。采用LSTD专门设计制造的大尺寸低摩擦气缸，保证了加工强度和工艺精度。
CD型---CD型机器由中心导轨共同驱动。
增加一组压板中心驱动辊，在加工过程中带动四块压板旋转。这种结构可以消除因气缸特性不同、每个头上抛光摩擦力不同而导致的压板速度差，从而更好地保证每个头抛光结果的一致性;并且抛光过程更加灵活
IDP型---IDP型机器的压盘由压盘组件上的电机单独驱动。
对于大尺寸的IDP机，通过增加内外导辊装置，可以实现陶瓷板的定位和工位切换，实现一工位上下料。还可以通过集成机械手组成自动化生产线，实现多台机器的连接。